郑州配资公司 5nm不再是梦？DUV光刻设备启动测试，外媒：ASML霸权动摇？

导读：5nm不再是梦？DUV光刻设备启动测试郑州配资公司，外媒：ASML霸权动摇？

限制与封锁，究竟是一道难以跨越的屏障，还是激发创新活力的催化剂？至少从光刻设备的发展进程来看，答案似乎更倾向于后者。

日前有报道显示，一家初创企业所生产的DUV（深紫外）设备已进入测试阶段。尽管该设备并非当前最为先进的EUV（极紫外光）设备，但通过运用多重曝光技术，在极限条件下能够实现5nm制程。此前，业界普遍预计DUV光刻技术大约会在2030年左右得以实现。然而，实际情况如何呢？这一目标竟提前了五年达成，以后5nm不再是梦！

可以说，DUV光刻技术的诞生，无疑打破了ASML所宣称的“20年技术壁垒”……对此外媒也纷纷表示：ASML霸权动摇了

01 科技“封锁”再次来袭？

为何说这是一场“科技”封锁，而非单纯的“半导体”封锁？答案隐藏在对手的底层战略之中。他们的目标并非仅仅是阻止先进产品的制造，而是企图通过禁锢先进制程的发展能力，扼住人工智能、自动驾驶等前沿领域的“算力根基”。

然而，如今这一策略正逐渐失效。在制程领域，28纳米是一道关键的分界线。它不仅能够覆盖绝大多数工业与消费场景，也是向更先进制程实现突破的基石。此次的DUV光刻设备，恰好实现了从28纳米到5纳米的全范围覆盖。通常而言，外部限制的核心目的是阻止相关方掌握7纳米以下制程的能力。如今，不仅达成了这一目标，更意味着具备了搭建5纳米产业链的能力。当“算力根基”不再受制于他人，人工智能、自动驾驶等高度依赖强大算力的科技领域，自然能够摆脱被“卡脖子”的风险。

历史上，ASML在28纳米节点的研发进展较为迟缓，而彼时尼康和佳能已提出新一代光刻方案。为维持ASML在该领域的主导地位，美国曾亲自出面给予扶持，助力其构建紧密的产业联盟，并引入台积电、三星等顶尖力量共同开展研发工作。也是在美国的推动下，台积电提出的浸没式方案成为了DUV（深紫外）光刻技术的主流技术来源，ASML也因此得以获取顶级资源。一台DUV光刻设备背后，是来自5000家供应商提供的10万个精密零件，可谓汇聚了全球的智慧成果。

而如今，依靠自身力量成功制造出了DUV光刻设备。这不仅意味着对手失去了一张“王牌”，更意味着其必须直面在先进制程领域发起的竞争。过去，仅凭庞大的市场规模，就足以让ASML、英伟达等企业感受到竞争压力。如今，具备了先进制程的技术实力，在相关领域的话语权无疑将进一步提升。